ASML详解EUV光刻机交付与关键部件链条

 ASML的极紫外（EUV）光刻系统被用于最先进半导体制造，单台标价约2.5亿美元，整机体积接近一辆校车、重量约150吨。EUV使用13纳米波长的光把电路图形逐层转移到硅晶圆上，人类头发直径约为8万到10万纳米；报道同时写到，一片晶圆可能包含约上百颗芯片。为产生EUV光源，设备以每秒约5万次的频率用高功率激光轰击锡滴；相关激光系统由德国工业公司Trumpf制造。光束在真空环境中由反射镜引导进入核心光路，报道点名德国光学厂商蔡司为该系统提供关键反射镜，并描述其表面加工精度极高。晶圆台采用磁悬浮方式定位与运动，报道给出的加速与减速速度约为70到80米/秒，以配合曝光节拍。交付与安装部分，报道写到整机在荷兰完成组装后会被拆分装入约40个集装箱单元，再用747货机运往晶圆厂现场组装。报道点名台积电、三星、SK海力士、英特尔、美光以及日本Rapidus等为接收或使用EUV系统的企业，并写到ASML上一年度出货44套EUV系统；同时提及2026年与2027年对这类设备的需求增量被预测将扩大。文中还写到ASML在EUV设备上处于独家供应位置，美国与中国的相关企业也在推进替代方案研发；需求端与数据中心扩建相关的先进芯片订单一并被纳入讨论，报道点名英伟达所需芯片由台积电代工生产，并提到比利时IMEC与ASML在相关技术上有合作背景。